上海新阳创立于1999年，于2011年在创业板上市，已专注集成电路制造用关键工艺材料的研发生产销售服务21年。上海新阳拥有电子电镀、电子清洗两大核心技术，其中芯片铜互连超纯电镀液及添加剂、铜蚀刻后清洗液产品已量产应用于90-14nm技术节点，成为国内20余条次集成电路产线的Baseline（基准）。已累计申请专利240余项，其中发明专利120余项，国际专利8项，公司多次承担国家02科技重大专项项目，先后被认定为国家科技部“02专项体制创新”企业、国家工信部“专精特新”小巨人企业、高新技术企业、上海市集成电路关键工艺材料重点实验室、上海市企业技术中心等。如今，公司已立项研发电子光刻技术，相应的I线、KrF、ArF光刻胶及工艺将成为公司第三大核心技术。
