岗位职责:
1.负责超表面DUV光刻工艺技术开发,制定新工艺流程和方法,完成新技术节点,解决工艺薄弱点并进行设计优化;
2.负责超表面DUV光刻工艺的日常管理,包括工艺流程优化、解决生产中的异常问题、支持新工艺技术量产验证、推动工艺标准化和文档更新完善等;
3.负责OPC数据分析,OPC模型建立及验证,OPC程序建立及持续改进。
任职要求:
1.硕士及以上学历,电子、微电子、光学、物理、集成电路等相关专业背景;
2.有超表面、超构透镜、衍射光波导等微纳光学相关领域研究或工作经历;
3.熟悉光刻工艺的原理,有ArF DUV光刻工艺和设备操作经验(有55nm及以下先进制程光刻工艺经验优先;有OPC应用经验优先)。
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